07 January 2025 
韓国における商標権及びデザイン権侵害に対する懲罰的損害賠償強化 : 3倍から5倍へ
[ 韓国知財ニュース速報] 韓国における商標権及びデザイン権侵害に対する懲罰的損害賠償強化 3倍から5 倍へ 2024年 12月27 日付で商標権及びデザイン権侵害行為の懲罰的損害賠償額の上限を、損害額の3倍から 5倍にまで引き上げる商標法及びデザイン保護法一部改正案が韓国国会の本会議を通過しました。同改正案によれば、法院は商標権及びデザイン権侵害行為が故意的なものと認められる場合、損害…
03 January 2025
2025年7月より商標異議申立期間が2ヶ月から30日に短縮
[ 韓国知財ニュース速報 ] 2025年7 月より商標異議申立期間が2ヶ月から 30日に短縮 商標法における異議申立期間の短縮を主内容とする商標法一部改正法案が、2024 年12月27 日国会本会議を通過しました。 韓国商標法上、商標登録出願に対し審査官から拒絶理由の指摘がなく出願公告決定された場合、第三者は出願公告日から一定期間内に異議申立することができます。現行法におけるこ…
02 January 2025
特許製品の輸出に対する特許権の保護強化及び医薬品許可に基づく存続期間延長制限(韓国特許法改正)
【韓国特許法改正速報】 特許製品の輸出に対する特許権の保護強化及び医薬品許可に基づく存続期間延長制限 最近、韓国特許法が以下のように改正されましたのでお知らせします。 特許侵害製品を輸出する場合についても特許権行使が可能 現行特許法は、物の発明の場合、物を生産・使用・譲渡・貸与または輸入したり、その物の譲渡または貸与の請約（譲渡または貸与のための…
31 October 2024
発明者訂正制度及び出願時の発明者記載要件の強化 (2024年11月1日施行)
発明者訂正制度及び出願時の発明者記載要件の強化 ( 2024年 11月 1日施行 ) 2024 年11 月1 日から施行される改正特許法施行規則によれば、真の発明者を明確に特定するために、発明者訂正要件及び出願時の発明者情報の記載要件が下表のように変更されます。 区分 現行 2024年11 月1 日から …
02 May 2024
韓国、商標に関する共存同意書、2024年5月1日施行
商標登録出願が他人の先出願(先登録)商標と同一・類似する商標の存在を理由に拒絶された場合、これまでは譲渡手続きを通して商標出願人と先出願 (先登録) の出願人 (権利者) を一致させなければ拒絶理由が解消されず、登録を受けられない不便さがありました。これを受けて改正商標法では、実際の取引実情を踏まえて出願人の便宜性向上のために、出願商標が他人の先出願 (先登録) 商標と同一・類似して商標登録の…
30 January 2024
韓国での特許侵害及び営業秘密侵害に対する懲罰的損害賠償の強化：３倍から５倍に
２０２４年１月２５日付で、損害額の３倍であった特許侵害行為の懲罰的損害賠償額の上限を５倍に改正する特許法改正案が韓国国会の本会議で可決されました。この改正案によると、法院は特許権又は専用実施権の侵害行為が故意であると認められる場合に、損害額の５倍を超えない範囲で賠償額を定めることができます。同様に、故意的な営業秘密侵害行為及びアイデア奪取行為に対する懲罰的損害賠償額の上限を３倍から５倍に改正する不…
10 October 2023
韓国、コンセント制度(共存同意制度)導入
取引先各位 コンセント制度を含む商標法改正法律が、2023年10月6日付で国会を通過したのでお知らせいたします。詳細については以下をご参照ください。 商標登録出願が他人の先出願(先登録 )商標と同一・類似する商標の存在を理由に拒絶された場合、現行法では譲渡手続きを通して商標出願人と先出願( 先登録)の出願人( 権利者)を一致させなければ拒絶理由が解…
01 September 2023
優先審査対象の一部縮小および存続期間延長規定の改正 (施行日：2024年 1月 1日)
韓国特許庁が、(i) 優先審査対象の一部縮小と、(ii) 存続期間延長除外期間の拡大に関する特許法・実用新案法施行令改正案を2023 年8 月 24 日付で公開したことを下記のようにお知らせいたします。今回の施行令改正案にて韓国特許庁では次の 2つの事項を改正しました。1. 優先審査対象の縮小 韓国ではPPH 、第三者実施、出願人実施を含む様々な事由に基づいて優先審査申請をすることができます。特に…
01 June 2023
デザイン保護法一部改正案 国会本会議通過(2023年5月25日) ― 関連デザイン出願期間の拡大(1年→3年)等、韓国デザイン出願手続要件緩和 ―
デザイン出願人の権利獲得のための手続上の便宜を提供することを目的とするデザイン保護法改正案が、2023年 5月 25日国会本会議を通過した。 現行デザイン保護法には、次のようにデザイン権者の権利保護を難しくする項目があった。 (1) 基本デザインの出願後に一部改良または変形したデザインを関連デザインとして出願できる期間を基本デザインの出願日から1年以内に制限(2) 新規性喪失…
17 August 2022
フォーカス機構を有するレーザ装置の進歩性に関する特許審判院の認容審決
特許審判院は、レーザ材料(lasing material)が有機物であるレーザー装置に関する本特許発明が引用発明1～3に比べて進歩性が認められると判断して、当該特許出願に対する拒絶決定の取り消しを決定しました。 本決定において、特許審判院は、特許発明と引用発明はフォーカス機構に関する構成において相違しているというLee Internationalの主張を認めました。具体…
